立方氧化锆生产流程
原材料抛光流程：
1、挑选优质出口原材料
2、原料切片、切条、切成方粒
3、方粒原料上机器滚圆、抛光
4、抛光好的圆珠清洗擦干，筛选入库
打磨流程：
1、上胶粘石
2、打磨抛光面部版位，抛光台面
3、检查，脱胶，清洗擦干，入库
4、上胶粘台面
5、打磨抛光底部版位
6、检查，脱胶，清洗擦干
7、筛选成品高度尺寸，分类等级，抽真空包装入库
等级如何区分：
根据立方氧化锆的修饰度划分为四个级别，有高到低依次表示为3A、2A、A、AB 。修饰度级别及要求见表1 。
表1立方氧化锆的修饰度级别及要求
修饰度级别 要求
3A 10倍放大镜下，无或很难发现影响修饰度的元素特征
2A 10倍放大镜下，有轻微影响修饰度的因素特征
A 10倍放大镜下，有明显影响修饰度的因素特征但肉眼不可见。
AB 肉眼可见明显影响修饰度的因素特征。
立方氧化锆修饰度影响因素特征类别
编号 名称 说明
1 腰围不圆 最大直径与最小直径相差超过平均直径的百分之二。
2 腰厚不均 最大腰厚度与最小腰厚度相差超过平均直径的百分之二。
3 台面偏心 台面中心偏离中心线的现象。
4 底尖偏心 底尖偏离中心线的现象。
5 不收底尖 亭部主刻面于底尖不交汇于一点的现象。
6 刻面不均 冠部星刻面、风筝面、上腰面，亭部主刻面、下腰面，其各种刻面形状、大小不一的现象。
7 刻面尖点不对齐 刻面与相邻刻面之间出现角与角过度接合（星撞、星腰撞、腰撞），或出现角与角不相接（星离、腰星离、腰离）的现象。
8 刻面缺失 刻面少于原设计刻面数的现象。
9 刻面畸形 刻面形状与原设计刻面形状不一致的现象。
10 额外刻面 刻面多于原设计刻面数的现象。
11 刻面棱重影 由于合成碳硅石的双折射率较大导致的光学现象，简称重影。
12 抛光纹 由于抛光不良在立方氧化锆表面形成的一组或多组平行排列的线状痕迹。
原材料抛光流程：
1、挑选优质出口原材料
2、原料切片、切条、切成方粒
3、方粒原料上机器滚圆、抛光
4、抛光好的圆珠清洗擦干，筛选入库
打磨流程：
1、上胶粘石
2、打磨抛光面部版位，抛光台面
3、检查，脱胶，清洗擦干，入库
4、上胶粘台面
5、打磨抛光底部版位
6、检查，脱胶，清洗擦干
7、筛选成品高度尺寸，分类等级，抽真空包装入库
等级如何区分：
根据立方氧化锆的修饰度划分为四个级别，有高到低依次表示为3A、2A、A、AB 。修饰度级别及要求见表1 。
表1立方氧化锆的修饰度级别及要求
修饰度级别 要求
3A 10倍放大镜下，无或很难发现影响修饰度的元素特征
2A 10倍放大镜下，有轻微影响修饰度的因素特征
A 10倍放大镜下，有明显影响修饰度的因素特征但肉眼不可见。
AB 肉眼可见明显影响修饰度的因素特征。
立方氧化锆修饰度影响因素特征类别
编号 名称 说明
1 腰围不圆 最大直径与最小直径相差超过平均直径的百分之二。
2 腰厚不均 最大腰厚度与最小腰厚度相差超过平均直径的百分之二。
3 台面偏心 台面中心偏离中心线的现象。
4 底尖偏心 底尖偏离中心线的现象。
5 不收底尖 亭部主刻面于底尖不交汇于一点的现象。
6 刻面不均 冠部星刻面、风筝面、上腰面，亭部主刻面、下腰面，其各种刻面形状、大小不一的现象。
7 刻面尖点不对齐 刻面与相邻刻面之间出现角与角过度接合（星撞、星腰撞、腰撞），或出现角与角不相接（星离、腰星离、腰离）的现象。
8 刻面缺失 刻面少于原设计刻面数的现象。
9 刻面畸形 刻面形状与原设计刻面形状不一致的现象。
10 额外刻面 刻面多于原设计刻面数的现象。
11 刻面棱重影 由于合成碳硅石的双折射率较大导致的光学现象，简称重影。
12 抛光纹 由于抛光不良在立方氧化锆表面形成的一组或多组平行排列的线状痕迹。
