PBN坩埚的核心原因:
化学惰性 & 高纯度: 高温下几乎不与熔融半导体(如GaAs, InP)反应,避免污染晶体,保障电学性能。
热性能优异: 垂直方向高导热性,利于建立精确温度梯度控制生长界面;低热膨胀系数抗热冲击。
易脱模 & 表面光滑: 熔体不润湿PBN,结合力弱,晶体易完整取出;光滑内壁减少非均质成核。
低放气: 高温真空下放气量极低,不污染生长环境。

化学惰性 & 高纯度: 高温下几乎不与熔融半导体(如GaAs, InP)反应,避免污染晶体,保障电学性能。
热性能优异: 垂直方向高导热性,利于建立精确温度梯度控制生长界面;低热膨胀系数抗热冲击。
易脱模 & 表面光滑: 熔体不润湿PBN,结合力弱,晶体易完整取出;光滑内壁减少非均质成核。
低放气: 高温真空下放气量极低,不污染生长环境。










